在電子產品應用領域不斷擴大的今天，半導體對我國的發展意義重大。半導體所涉及的行業很廣，根據原料和工藝的不同，所產生的廢水性質也不同，但都具有排水量大、污染能力強的特點。按半導體污水處理企業的特點，將半導體廢水分為三大類，分別來自于生產過程中產生的含氟廢水、有機廢水和金屬離子廢水。

含氟廢水：廢水主要來自半導體生產工序的腐蝕段，由于使用了大量的氫氟酸、氟化銨等試劑，污染物濃度較高，如氟、氨等，廢水一般呈強酸性；

處理辦法：將廢水的p H值調整在6-7左右，再加入的過量的Ca Cl2和適量的絮凝劑，后續會行形成沉淀，部分污泥循環成為載體，在沉淀池中通過重力沉降能夠實現泥水分離。第一次反應時能夠去除80%的氟，再一次加入絮凝劑，氟化鈣及其其他形態沉淀，利用污泥泵輸送到污泥沉淀池,用板框式脫水機壓成泥餅外運，這時候產生的壓濾液進入其他的系統進一步處理。

有機廢水，其污染物主要是一些常規污染物，生產濃度與生產工藝和運行管理水平密切相關。半導體生產廢水中的金屬離子種類很多，主要有銅、鎳、錫、鉛、銀等。金屬離子污水則是根據不同的金屬離子采用不同的方法，常見的方法有活性炭吸附法、化學沉降法、去離子交換法等。

半導體污水除了除了以上方法以外，還可以對污水進行電滲析、離子交換樹脂、吸附、冷凍等，在進行污水處理期間還可以去除一些雜質以及特殊的氣味。

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